ICP

Metallurgy
Inductively Coupled Plasma. Induktiv gekoppeltes Plasma, erzeugt durch einen Hochfrequenz-Generator mit Induktionsspule. Praktische Anwendung findet dieses Plasma für die Analyse von chemischen Elementen in Lösungen, Pulver, Gas oder Dampf. Es hat hohe analytische Leistungsfähigkeit durch den Einsatz der Lichtleitertechnik zur Übertragung des Lichts vom Plasma zu den maximal fünf Spektrometeroptiken. Bis zu 64 Elemente werden simultan in weniger als 30 Sekunden bestimmt. Die hohe Plasmatemperatur (> 8000 K) hat zerstörende Wirkung und führt zu thermischer Ionisation. Dieser Effekt wird bei der Analyse im ICP genutzt: Ein Gas (vorzugsweise Argon) wird durch ein Quarzrohrsystem geleitet, an dessen Ende eine hohe Hochfrequenzleistung anliegt. Nach Zündung und Ionisation des Gases entsteht ein homogenes Plasma mit hoher thermischer Intensität. Mittels eines Trägergases werden feinst zerstäubte Lösungspartikel des zu analysierenden Stoffes in den heißen Plasmakern geleitet, die durch die Verweilzeit der Elementpartikel im Plasma atomisiert beziehungsweise ionisiert werden. Diese bewirken eine Elementemission, welche mit spektrographischen und spektrometrischen Systemen qualitativ und quantitativ erfasst wird.

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