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Physical-Vapour-Deposition

Surface Coating
Physikalische Gasphasenabscheidung (PVD, physical vapor deposition), Dünnschichttechnologie. PVD ist ein Oberflächenbeschichtungsverfahren auf physikalischer Basis, durchgeführt in Vakuum-Beschichtungsanlagen zur Abscheidung von Schichten auf Flachdisplays, Solarzellen und Spezialverglasungen mit photokatalytische Schichten. Ein auf Basis von chemischen Reaktionen durchgeführtes Verfahren wird mit chemischer Gasphasenabscheidung, CVD, bezeichnet.

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